Plasma-etsers: Preciese halfgeleiderbanen maken

Wat is een plasma-etser?

Apparaat dat plasma gebruikt om de circuitbanen te creëren die halfgeleider geïntegreerde circuits nodig hebben. Precies gerichte plasma-oplossing op siliciumwafer → chemische reactie op waferoppervlak: ofwel siliciumdioxide afscheiden (elektrische banen creëren), ofwel bestaande siliciumdioxide verwijderen (alleen banen laten staan).

Plasmageneratie

Vacuüm in etser + hoogfrequent elektromagnetisch veld.
Gas (zuurstof of fluor, afhankelijk van doel) door etser → veld exciteert atomen → superverhit.
Gas ontbindt in basiselementen; hitte stript buitenste elektronen → ionen.
Uitmonding: dunne, superverhitte ionenstraal (plasma) op wafer.

Afscheiden (zuurstofgas)

Plasma reageert met silicium op wafer → siliciumdioxide (geleidend). Dunne film laagt zich af → precieze sporenserie = geleidende paden tussen componenten.

Verwijderen (fluorgas)

Als meer siliciumdioxide nodig is dan niet: al bedekte wafer in etser → fluoorplasma vernietigt onnodige siliciumdioxide. Alleen benodigde banen blijven.

Strookwalserijen: Hoeksteen van moderne staalproductie Buigen van buizen: Technieken, materialen en toepassingen

Industrieel materiaal

CNC machine

Industriële robot

Industrieel materiaal